Mapa dotacji

Numer_referencyjny_programu_pomocowego: SA.41471(2015/X) Przeznaczenie_pomocy_publicznej: art. 25 rozporządzenia KE nr 651/2014 z dnia 17 czerwca 2014 r. uznające niektóre rodzaje pomocy za zgodne z rynkiem wewnętrznym w stosowaniu art. 107 i 108 Traktatu (Dz. Urz. UE L 187/1 z 26.06.2014). Przedmiotem Projektu jest opracowanie addytywnej technologii redukcji rezystancji transparentnej katody wyświetlacza TE-OLED. Rozwiązanie tego problemu jest bardzo istotne, ponieważ obecnie, poprzez zmniejszoną aperturę, ekrany OLED TV tracą na jakości obrazu przez blokowanie części światła wydobywającego się z diod organicznych. Projekt zakłada rozwiązanie powyższego problemu poprzez naniesienie cienkich linii przewodzących na warstwie transparentnego tlenku metalicznego ITO lub IZO, będącego katodą dla TE-OLED, w przestrzeni pomiędzy pikselami RGB. Nawiązanie kontaktu spółki XTPL z firmą BOE oraz podpisanie z nią umowy o ewaluacji technologii, pozwoliło precyzyjnie określić cele projektu. Wymagane jest, by nanoszone linie były szerokości 5 μm oraz 20 μm, odpowiednio w pionie i poziomie i oddalone względem siebie o ~105 μm i ~315 μm. Opracowywana technologia jest dedykowana producentom ekranów TE – OLED i musi uwzględniać docelową strukturę podłoża, a zwłaszcza fakt, iż pod cienką warstwą IZO ekranu TE – OLED znajdować będzie się warstwa materiału organicznego, naniesiona na nieplanarnej strukturze zawierającej połączenia elektroniczne oraz elementy dyskretne. Druk siatek nie może naruszyć struktury warstwy IZO, a kolejne etapy procesu polegające na spiekaniu zdeponowanych linii nie mogą przekroczyć temperatury granicznej dla warstwy organicznej (ok.90°C). W konsekwencji zadaniami zespołu badawczego będzie zaprojektowanie systemu dozującego zapewniającego możliwość precyzyjnej depozycji, opracowanego także w ramach projektu, tuszu o wysokim stężeniu srebra oraz lepkości powyżej 10 000 cP, połączonego z systemem detekcji odległości dyszy od podł